O aplikácii a princípe technológie naprašovacích terčov niektorí zákazníci konzultovali RSM, teraz o tomto probléme, ktorý je viac znepokojený, technickí experti zdieľajú niektoré špecifické súvisiace znalosti.
Aplikácia naprašovacieho terča:
Nabíjacie častice (ako sú argónové ióny) bombardujú pevný povrch, čo spôsobuje, že povrchové častice, ako sú atómy, molekuly alebo zväzky, unikajú z povrchu javu objektu nazývaného „rozprašovanie“.Pri magnetrónovom naprašovaní sa kladné ióny generované argónovou ionizáciou zvyčajne používajú na bombardovanie pevnej látky (cieľ) a naprašované neutrálne atómy sa ukladajú na substrát (obrobok) za vzniku filmovej vrstvy.Magnetrónový naprašovací povlak má dve charakteristiky: „nízka teplota“ a „rýchla“.
Princíp magnetrónového naprašovania:
Medzi pól rozprašovaného terča (katódu) a anódu sa pridá ortogonálne magnetické pole a elektrické pole a vo vysokovákuovej komore sa naplní požadovaný inertný plyn (zvyčajne plyn Ar).Permanentný magnet vytvára 250-350 Gaussovo magnetické pole na povrchu materiálu terča a vytvára ortogonálne elektromagnetické pole s elektrickým poľom vysokého napätia.
Pôsobením elektrického poľa sa plyn Ar ionizuje na kladné ióny a elektróny a na cieľ je určitý negatívny vysoký tlak, takže elektróny emitované z cieľového pólu sú ovplyvnené magnetickým poľom a pravdepodobnosťou ionizácie pracovného plyn sa zvyšuje.V blízkosti katódy sa vytvorí plazma s vysokou hustotou a ióny Ar sa pôsobením Lorentzovej sily zrýchľujú na cieľový povrch a bombardujú cieľový povrch vysokou rýchlosťou, takže rozprášené atómy na cieli unikajú z cieľového povrchu s vysokou rýchlosťou. kinetickej energie a letieť k substrátu, aby vytvorili film podľa princípu premeny hybnosti.
Magnetrónové naprašovanie sa vo všeobecnosti delí na dva druhy: DC naprašovanie a RF naprašovanie.Princíp jednosmerného naprašovacieho zariadenia je jednoduchý a rýchlosť pri naprašovaní kovu je rýchla.Využitie RF naprašovania je rozsiahlejšie, okrem naprašovania vodivých materiálov aj naprašovanie nevodivých materiálov, ale aj reaktívna naprašovacia príprava oxidov, nitridov a karbidov a iných zložených materiálov.Ak sa frekvencia RF zvýši, zmení sa na mikrovlnné plazmové rozprašovanie.V súčasnosti sa bežne používa mikrovlnné plazmové naprašovanie typu elektrónovej cyklotrónovej rezonancie (ECR).
Čas odoslania: august-01-2022