Vákuové poťahovanie sa vzťahuje na zahrievanie a odparovanie zdroja odparovania vo vákuu alebo naprašovanie so zrýchleným bombardovaním iónmi a jeho nanášanie na povrch substrátu za vzniku jednovrstvového alebo viacvrstvového filmu.Aký je princíp vákuového lakovania?Ďalej nám ho predstaví redaktor RSM.
1. Povlak na vákuové odparovanie
Odparovacie nanášanie vyžaduje, aby vzdialenosť medzi molekulami alebo atómami pár od zdroja vyparovania a substrátu, ktorý sa má potiahnuť, bola menšia ako priemerná voľná dráha molekúl zvyškového plynu v nanášacej miestnosti, aby sa zabezpečilo, že molekuly pár odparovanie môže dosiahnuť povrch substrátu bez kolízie.Uistite sa, že film je čistý a pevný a že odparovanie nebude oxidovať.
2. Povlak vákuovým naprašovaním
Vo vákuu, keď sa zrýchlené ióny zrazia s pevnou látkou, na jednej strane sa poškodí kryštál, na druhej strane sa zrazí s atómami, ktoré tvoria kryštál a nakoniec atómy alebo molekuly na povrchu pevnej látky. prskať smerom von.Naprašovaný materiál sa nanáša na substrát za vzniku tenkého filmu, ktorý sa nazýva vákuové naprašovanie.Existuje mnoho metód naprašovania, medzi ktorými je najskoršie naprašovanie diód.Podľa rôznych katódových cieľov sa dá rozdeliť na jednosmerný prúd (DC) a vysokofrekvenčný (RF).Počet atómov rozprášených dopadom na cieľový povrch iónom sa nazýva rýchlosť rozprašovania.Pri vysokej rýchlosti naprašovania je rýchlosť tvorby filmu vysoká.Rýchlosť rozprašovania súvisí s energiou a typom iónov a typom materiálu terča.Všeobecne povedané, rýchlosť naprašovania sa zvyšuje so zvyšujúcou sa energiou ľudských iónov a rýchlosť naprašovania drahých kovov je vyššia.
Čas odoslania: 14. júla 2022